鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 試板的裸露方式，不可將鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 試板置放在霧粒從噴頭出去的平行線(xiàn)運動(dòng)軌跡上。每片試板的受試表層朝上，與垂直線(xiàn)交角是20°士5°。注:裸露于鹽霧箱中的每片試板的放置視角是很重要的。
 

 

　　當有不一樣樣子的上漆產(chǎn)品工件實(shí)驗時(shí)，裸露方式由相關(guān)層面商談。開(kāi)展這類(lèi)實(shí)驗時(shí)，尤其關(guān)鍵的是應將這種不一樣樣子的構件按其一切正常情況置放。在這里規定下，構件置放應盡量防止防礙氣旋的流動(dòng)性。假如構件防礙了氣旋的流動(dòng)性，別的試板和構件則不可以另外開(kāi)展實(shí)驗。試板鍍層的毀壞水平隨置放的方向不一樣而不一樣，對于此事應給與適度的考慮到。

 

　　鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 試板的排序應不使其相互之間觸碰或與殼體觸碰，受試表層應裸露在耐腐蝕能無(wú)阻攔地地基沉降的地區。

 

　　鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 內的唯有應是(35土2)C。對總面積為80Cm2的水準噴霧器搜集設備而言，在小周期時(shí)間為24小時(shí)側得的耐腐蝕水溶液的均值搜集速度應是1米L/h~25mL/h。搜集到的水溶液的氯化鈉濃度應是(50土10)gL，pH值應是6.5~7.2。已噴霧器過(guò)的實(shí)驗水溶液不可多次重復使用。

 

　　應開(kāi)展2次平行測定;按照規定的標準，開(kāi)展調節。將試板(或構件)排污在鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 內。關(guān)掉鹽霧試驗箱廠(chǎng)家 并使實(shí)驗水溶液根據噴頭剛開(kāi)始流動(dòng)性。在全部要求實(shí)驗周期時(shí)間內要持續噴霧器。由于查驗、重新排序或取下試板;定期檢查填補儲槽中的水溶液;及其查驗是不是考慮要求的標準等而短期內的日常終斷以外。